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Huace-1450G半導體晶圓真空熱處理平臺

更新時間：2026-09-17

型號：Huace-1450G

瀏覽量：166

華測儀器Huace-1450G半導體晶圓真空熱處理平臺設備的反射鏡采用高準度曲率設計，通過五軸加工系統(tǒng)制造，以維持更高的反射效率。
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Huace-1200G真空單片晶圓退火處理系統(tǒng)

更新時間：2026-09-17

型號：Huace-1200G

瀏覽量：141

華測儀器Huace-1200G真空單片晶圓退火處理系統(tǒng)采用高準度、高反射率拋物面搭配高性能加熱源，進行寬范圍均熱區(qū)、高速加熱與高速降溫。
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Huace-800G高真空晶圓熱處理退火裝置

更新時間：2026-09-17

型號：Huace-800G

瀏覽量：164

華測儀器Huace-800G高真空晶圓熱處理退火裝置是在真空環(huán)境下，對半導體晶圓進行高溫熱處理的設備，主要用于消除應力、優(yōu)化材料結構、增加電學性能。
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Huace-1200G高溫真空退火爐

更新時間：2026-04-08

型號：Huace-1200G

瀏覽量：894

華測儀器Huace-1200G高溫真空退火爐設備的反射鏡采用高準度曲率設計，通過五軸加工系統(tǒng)制造，以維持更高的反射效率。
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Huace-800G真空晶圓退火爐

更新時間：2026-04-02

型號：Huace-800G

瀏覽量：988

華測儀器Huace-800G真空晶圓退火爐是在真空環(huán)境下，對半導體晶圓進行高溫熱處理的設備，主要用于消除應力、優(yōu)化材料結構、增加電學性能。
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