面對(duì)高溫工況下材料相變、晶粒生長(zhǎng)、結(jié)構(gòu)形變等動(dòng)態(tài)變化，想要高準(zhǔn)度捕捉瞬時(shí)微觀行為，華測(cè)儀器 Huace 1400-XY、Huace 1500-XY 高溫原位光學(xué)加熱臺(tái)提供原位觀測(cè)方案，憑借準(zhǔn)確控溫、靈活位移、氣氛適配與光路設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)高溫下材料全流程動(dòng)態(tài)表征。

Huace 1400-XY 反射式高溫原位加熱臺(tái)

溫區(qū)覆蓋室溫至 1400℃，控溫精度達(dá) ±0.1℃，溫控穩(wěn)定；升溫速率 1~150℃/min 可調(diào)，支持多段程序升降溫，可模擬多種高溫工況。采用陶瓷加熱體搭配高溫阻絲，熱場(chǎng)均勻穩(wěn)定；搭載 XY 雙向可調(diào)載樣臺(tái)，高溫狀態(tài)下可實(shí)時(shí)調(diào)整觀測(cè)位置，準(zhǔn)確鎖定觀測(cè)區(qū)域。 支持真空、惰性氣氛使用，可防止樣品高溫氧化變質(zhì)，普遍應(yīng)用于陶瓷、半導(dǎo)體、合金材料等領(lǐng)域，可觀測(cè)高溫?zé)Y(jié)、熱形變、界面反應(yīng)及表面結(jié)構(gòu)演變。

Huace 1500-XY 透射式高溫原位加熱臺(tái)

機(jī)身小巧，用于高溫透射顯微觀測(cè)，搭建原位試驗(yàn)系統(tǒng)。 溫度可達(dá) 1500℃，搭載自研自散熱結(jié)構(gòu)，高溫持續(xù)運(yùn)行無(wú)需外置水冷，安裝使用更便捷。配備透射光路，可穿透透明、半透明樣品，清晰觀測(cè)內(nèi)部晶界、相界、熔融狀態(tài)、晶格變化等微觀特征。 內(nèi)置 XY 位移結(jié)構(gòu)，高溫下可切換觀測(cè)點(diǎn)位，適配光學(xué)玻璃、高溫晶體、熔鹽等試樣，助力高溫相變研究、內(nèi)部結(jié)構(gòu)分析與熔融特性測(cè)試。

兩款設(shè)備兼顧反射與透射觀測(cè)需求，寬溫域、工況適配性強(qiáng)，準(zhǔn)確記錄高溫環(huán)境下材料每一處細(xì)微變化，為新材料研發(fā)、高溫工藝優(yōu)化與機(jī)理研究提供可靠測(cè)試方案。