面對高溫工況下材料相變、晶粒生長、結構形變等動態變化，想要高準度捕捉瞬時微觀行為，華測儀器 Huace 1400-XY、Huace 1500-XY 高溫原位光學加熱臺提供原位觀測方案，憑借準確控溫、靈活位移、氣氛適配與光路設計，實現高溫下材料全流程動態表征。

Huace 1400-XY 反射式高溫原位加熱臺

溫區覆蓋室溫至 1400℃，控溫精度達 ±0.1℃，溫控穩定；升溫速率 1~150℃/min 可調，支持多段程序升降溫，可模擬多種高溫工況。采用陶瓷加熱體搭配高溫阻絲，熱場均勻穩定；搭載 XY 雙向可調載樣臺，高溫狀態下可實時調整觀測位置，準確鎖定觀測區域。 支持真空、惰性氣氛使用，可防止樣品高溫氧化變質，普遍應用于陶瓷、半導體、合金材料等領域，可觀測高溫燒結、熱形變、界面反應及表面結構演變。

Huace 1500-XY 透射式高溫原位加熱臺

機身小巧，用于高溫透射顯微觀測，搭建原位試驗系統。 溫度可達 1500℃，搭載自研自散熱結構，高溫持續運行無需外置水冷，安裝使用更便捷。配備透射光路，可穿透透明、半透明樣品，清晰觀測內部晶界、相界、熔融狀態、晶格變化等微觀特征。 內置 XY 位移結構，高溫下可切換觀測點位，適配光學玻璃、高溫晶體、熔鹽等試樣，助力高溫相變研究、內部結構分析與熔融特性測試。

兩款設備兼顧反射與透射觀測需求，寬溫域、工況適配性強，準確記錄高溫環境下材料每一處細微變化，為新材料研發、高溫工藝優化與機理研究提供可靠測試方案。